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20年專注等離子清洗機研發生產廠家
等離子體發生器工藝在半導體晶圓上應用越來越普遍： 在半導體生產過程中，幾乎每個過程都需要清洗，圓形清洗質量對設備性能有嚴重影響。正是因為圓形清洗是半導體制造過程中一個重要而頻...
發布時間:2022-12-17
雙基片結構下的射頻電漿清洗機： 使用園柱諧振腔式MPCVD裝置能通過增強沉積壓力來提升等離子體密度，在基片臺上實現金剛石膜的快速生長。改變石英管位置、腔體結構、調諧板靈活程度等方式...
發布時間:2022-12-14
plasma設備常說的基本要素跟哪些方面息息相關： 在原材料的表面處理過程中，plasma設備主要有以下基本要素：明顯增強侵潤性，從而形成活性表面；清潔灰塵和油污，細致清潔和除靜電；提供...
發布時間:2022-12-12
crf電漿清洗機活化后對表面是否可達到均勻性： crf電漿清洗機一次清洗范圍大，可設計成不規則形狀，非常適合用于材料表面改性。經過電漿清洗機表面處理，原材料的表面存在很多物理、化學...
發布時間:2022-12-08
行業中清洗工藝常講的粘結性、相容性和去除臟污往往跟真空等離子清洗機有關：一、crf真空等離子清洗機增加材料之間的粘結性 許多聚合物材料，如聚合物膜和纖維，很難被溶劑濕潤，附著力低...
發布時間:2022-12-07
